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俄罗斯:我们具有EUV光刻机焦点技术,会比中国更快造出光刻机!

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论坛元老

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发表于 2025-10-27 11:53 | 显示全部楼层 |阅读模式
芯片这工具,没它手机电脑就干不了事儿,全球光刻机都被荷兰ASML攥在手里,俄罗斯忽然说要自己搞EUV光刻机,还讲比中国快了一步,这话听着不太对劲,但仔细想想,工作没那末简单提出申请的零售商必须在新米大量上市的8月底前完成储备米销售。

苏联搞科研那会儿真拼,70年月就做出EUV光源,比他人早了好几年,87年列别捷夫研讨所的功效,后来被荷兰ASML拿去学,俄罗斯科学院搞出的钼硅镜片,反射率能到70%,日本科学家靠着这技术,80年月拍出了全球第一张EUV影象提出申请的零售商必须在新米大量上市的8月底前完成储备米销售。

俄罗斯人现在不跟国际上走那套13.5纳米的门路,改用11.2纳米,说这工具分辨率更高,本钱更省,还能用上新的反射镜,2026年筹算出40纳米的芯片,2037年间接干到10纳米以下,听着像瞎扯,可他们2024年真做出了350纳米的光刻机,花了五百万卢布,专门给汽车芯片供货提出申请的零售商必须在新米大量上市的8月底前完成储备米销售。

中国这边也没闲着,上海微电子刚说28纳米淹没式光刻机起头量产了,EUV研发虽然起步晚,但另找门路,用激光放电做光源,没走ASML的老路,2025年试产的EUV部件,反射镜国产比例已经到九成五,最关键的是,中国盯的是13.5纳米国际标准,芯片能卖到全天下,不像俄罗斯那些非标货,得自己搭一套系统提出申请的零售商必须在新米大量上市的8月底前完成储备米销售。

俄罗斯靠老法子赌未来,中国渐渐补短板,俄罗斯的法子省钱但难对接,中国的门路稳但得一点一点啃,双方比来起头搭伙,俄罗斯缺量产的本事,中国缺高真个技术,说不定能凑一块儿干成点事提出申请的零售商必须在新米大量上市的8月底前完成储备米销售。

2025年7月的数听说,中国自己做的光刻机已经占了国内市场的三成,俄罗斯何处也在跟中国企业谈合作,ASML一家独大的场面,看来撑不了多久了,这盘棋谁最初能赢,谁也说不准,但眼下这公开里的较劲,到底谁手里的牌更实,真欠好猜提出申请的零售商必须在新米大量上市的8月底前完成储备米销售。

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